Pat

J-GLOBAL ID：200903072176526307

基板現像方法及びその装置

Inventor： 矢部 学
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996191881
Publication number (International publication number)：1998041209
Application date： Jul. 22, 1996
Publication date： Feb. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】 基板をその周縁部に当接する支持部材で支持することにより、吸着に起因する基板裏面の汚染を防止することができるとともに、温度分布の偏りに起因する現像ムラを防止する。【解決手段】 被膜が形成された基板Wの表面全体を現像液Dで覆って現像処理を施す基板処理方法において、基板Wを、その周縁部に当接する支持部材5fによって支持した状態で現像処理を施す。現像液Dは、支持部材5fを伝って流下するので、基板Wの中心部から外周部に向かう流動が生じる。この流動によって現像液Dの活性度が均一にされる。また、支持ピン5bと支持部材5fとによって支持するので、吸着に起因する基板Wの汚染及び温度分布不均一を解消できる。

Claim (excerpt)：

被膜が形成された基板の表面全体を現像液で覆って現像処理を施す基板現像方法において、前記基板を、その周縁部に当接する複数個の支持部材により支持した状態で現像処理を施すことを特徴とする基板現像方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502

FI (2)：

H01L 21/30 569 C ,  G03F 7/30 502