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J-GLOBAL ID：200903072207204346

ダイヤモンド膜の形成方法

Inventor： 平林 敬二 ,  吉川 俊明
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 山下 穣平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994165182
Publication number (International publication number)：1996027576
Application date： Jul. 18, 1994
Publication date： Jan. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ダイヤモンド結晶膜が、高い形成速度及び大面積に形成することができるダイヤモンド膜の形成方法を提供する。【構成】 高周波プラズマCVD法によるダイヤモンド膜の形成方法において、誘導結合型プラズマCVD法を用い、かつ高周波周波数を40〜250MHzとして、炭素を含有する原料ガスをプラズマ化して分解し、基体上にダイヤモンド膜を形成する、ダイヤモンド膜の成形方法。

Claim (excerpt)：

高周波プラズマCVD法によるダイヤモンド膜の形成方法において、誘導結合型プラズマCVD法を用い、かつ高周波周波数を40〜250MHzとして、炭素を含有する原料ガスをプラズマ化して分解し、基体上にダイヤモンド膜を形成することを特徴とするダイヤモンド膜の形成方法。

IPC (3)：

C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  C30B 29/04