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J-GLOBAL ID：200903072213408115

レジスト材料

Inventor： 渡辺 淳 ,  八木橋 不二夫 ,  大萱 資子
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994110324
Publication number (International publication number)：1995295222
Application date： Apr. 26, 1994
Publication date： Nov. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高エネルギー紫外線、電子ビーム、X線等の放射線に対し高感度であると共に、熱安定性が高く、しかもアルカリ性不純物によって影響を受け難い上、広い範囲の高分子化合物や添加剤が使用できるレジスト材料を提供する。【構成】 下記一般式(1)で示されるグリオキシム誘導体を光酸発生剤として含有することを特徴とするレジスト材料として用いる。【化1】(但し、式中R1、R2はそれぞれ独立してアルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはヘテロアリール基を表し、又はR1とR2とは互いに結合して環状構造を形成する。R3はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるグリオキシム誘導体を光酸発生剤として含有することを特徴とするレジスト材料。【化1】(但し、式中R1、R2はそれぞれ独立してアルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはヘテロアリール基を表し、又はR1とR2とは互いに結合して環状構造を形成する。R3はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。)

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027