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J-GLOBAL ID：200903072220332400

脱離基を有する新規なシリコーン

Inventor： 高橋 栄治 ,  井柳 宏一
Applicant, Patent owner： ポーラ化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995210099
Publication number (International publication number)：1997040680
Application date： Jul. 26, 1995
Publication date： Feb. 10, 1997
Summary：

【要約】【構成】 一般式(I)に表される含フッ素シリコーン及びそれを含有する組成物並びにそれを反応させてなる組成物。【化1】【効果】 本発明のシリコーンは他のモノマー等と共に柔軟且つ強固な被膜組成物を形成する。

Claim (excerpt)：

一般式(I)に表される含フッ素シリコーン。【化1】

FI (3)：

C07F 7/18 E ,  C07F 7/18 N ,  C07F 7/18 Q