膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999150984
Publication number (International publication number)：2000336314
Application date： May. 31, 1999
Publication date： Dec. 05, 2000
Summary：

【要約】【目的】層間絶縁膜材料として、適当な均一な厚さを有する塗膜が形成可能な、誘電率、吸水率特性などに優れた膜形成用組成物を得る。【構成】 (A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物 R1 a Si(OR2 )4-a ・・・・・(1)(R1は水素原子、フッ素原子、1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)および(A-2)下記一般式(2) で表される化合物 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c ・・・・・(2)(R3,R4,R5およびR6は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R7は酸素原子または-(CH2)n-を示し、dは0または1を示し、nは1〜6の整数を示す。)から選ばれる少なくとも1種の化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方ならびに(B)フッ素系界面活性剤を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

Claim (excerpt)：

(A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物R1aSi(OR2)4-a ・・・・・(1)(R1は水素原子、フッ素原子、1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)および(A-2)下記一般式(2) で表される化合物 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c ・・・・・(2)(R3,R4,R5およびR6は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R7は酸素原子または-(CH2)n-を示し、dは0または1を示し、nは1〜6の整数を示す。)から選ばれる少なくとも1種の化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方ならびに(B)フッ素系界面活性剤を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (4)：

C09D183/06 , C09D183/14 , H01L 21/312 , H01L 21/316

FI (4)：

C09D183/06 , C09D183/14 , H01L 21/312 C , H01L 21/316 G

F-Term (14)：

4J038DL021 , 4J038DL031 , 4J038GA12 , 4J038JC32 , 4J038KA09 , 4J038PB09 , 5F058AA03 , 5F058AA04 , 5F058AC03 , 5F058AC06 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH01 , 5F058AH02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

特開昭55-164255
特開昭63-168470
被膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-169261 Applicant：東レ株式会社

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