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J-GLOBAL ID：200903072251685947

インピーダンス整合によるマイクロ波エネルギーの結合装置

Inventor： ムーア,ロドニー ,  ケース,ハノ ,  エサース,ヴォルフ
Applicant, Patent owner： テトラ ラバル ホールデングス アンド ファイナンス エス エイ
Agent (1)： 重信 和男 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001553557
Publication number (International publication number)：2003534627
Application date： Jan. 11, 2001
Publication date： Nov. 18, 2003
Summary：

【要約】空洞体(2)内に配置された処理チャンバ(3)中にマイクロ波エネルギーを結合させる装置であり、処理チャンバは空洞体(2)の内壁をコーティング処理するためのプラズマCVDコーティング処理チャンバである。本発明による装置は、マイクロ波発生装置、マイクロ波結合装置(10)、およびマイクロ波導体(1,9)から成る。ガス供給チューブ(13)は、結合したマイクロ波エネルギーにより処理用ガスをプラズマ状態に活性化するように空洞体(2)に挿入される。いろいろな形状や寸法の空洞体(2)を、実質的に都度それに合わせる必要なしに処理するため、導電材料を備えるガス供給チューブ(13)は、同軸導波管(領域bの1)の内部導体における第1の面から導波管中に伸びており、マイクロ波結合装置(10)は対向する側の第2の面に配置される。さらに、実質的に空洞スリーブ形状で電気導電性の空洞導電挿入体(12)は、ガス供給チューブ(13)を同軸状に取り囲む同軸導波管中に同軸導波管から離れて配置される。

Claim (excerpt)：

空洞体(2)中に配置された処理チャンバ(3)中にマイクロ波エネルギーを結合させる装置、詳細には空洞体(2)の内壁にコーティング処理を行うプラズマCVDコーティングチャンバにおいて、マイクロ波発生源、マイクロ波結合装置(10)、マイクロ波導波管(1、9)を備え、ガス供給チューブ(13)は、プロセスガスが結合したマイクロ波エネルギーによりプラズマ状態に活性化されるように、空洞体(2)の内部に引き入れられ、ガス供給チューブ(13)は同軸の導波管(領域bの1)内部導電体として第1の側面から前記導波管中に伸びる電気的に導電性を持つ材料から成り、マイクロ波結合装置(10)は反対側の第2の側面に配置され、さらに電気的に導電性を持ち実質的に円筒状の空洞導電挿入体(12)が同軸状にガス供給チューブ(13)をある程度離れて取り囲む同軸の導波管中に配置されることを特徴とする空洞体(2)中に配置された処理チャンバ(3)中にマイクロ波エネルギーを結合させる装置。

IPC (2)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/511

FI (2)：

H05H 1/46 B ,  C23C 16/511

F-Term (5)：

4K030CA07 ,  4K030CA15 ,  4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  4K030LA24