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J-GLOBAL ID：200903072264026055

ポジ型感光性樹脂組成物及びレリーフパターンの製造法

Inventor： 佐々木 守
Applicant, Patent owner： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
Agent (1)： 高田 幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998149944
Publication number (International publication number)：1999338157
Application date： May. 29, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、i線に対する露光感度が高く、現像時に微細パターンの剥離の無い、耐熱性に優れたポジ型感光性樹脂組成物及び現像時に微細パターンの剥離の無いレリーフパターンの製造法をを提供する。【解決手段】(A)酸性基を有する重合体、(B)光により酸を発生する化合物及び(C)一般式(I)【化1】(式中、nは1〜10の整数、R及びR’は各々独立に炭素数1〜5のアルキル基、mは0〜3の整数を示す)で表される有機ケイ素化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、及び該ポジ型感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、現像する工程及び加熱処理する工程を含むレリーフパターンの製造法。

Claim (excerpt)：

(A)酸性基を有する重合体、(B)光により酸を発生する化合物及び(C)一般式(I)【化1】(式中、nは1〜10の整数、R及びR’は各々独立に炭素数1〜5のアルキル基、mは0〜3の整数を示す)で表される有機ケイ素化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (5)：

G03F 7/075 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/075 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/30 502 R