Pat
J-GLOBAL ID：200903072279201210
表面プラズモン共鳴を利用した測定装置
Inventor：
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993054296
Publication number (International publication number)：1994265336
Application date： Mar. 15, 1993
Publication date： Sep. 20, 1994
Summary：
【要約】【目的】 オット配置による光学プリズムと金属との間の距離を、簡単な構成で正確に制御できる表面プラズモン共鳴を利用した測定装置を提供する。【構成】 金属(3) の表面に測定試料(2) を保持するとともに、この測定試料(2) の上方に空気の誘電体を介して光学プリズム(6) を配置し、この光学プリズム(6) に全反射の条件で偏光光を入射した際に生じるエバネッセント光によって金属(3) の表面に表面プラズモン共鳴を誘起させ、その反射光を検出して測定試料(2) の状態を測定するようにした表面プラズモンを利用した測定装置において、金属(3) を変位手段(5) を介してXYステージ(4) 上に保持し、光学プリズム(6) と金属(3) との距離が最適な表面プラズモン共鳴が生じる条件となるように、金属(3) を変位手段(5) によりXYステージ(4) による走査面と直交する方向に変位させながら、XYステージ(4) により二次元走査し得るよう構成する。
Claim (excerpt)：
金属の表面に測定試料を保持するとともに、この測定試料の上方に空気の誘電体を介して光学プリズムを配置し、この光学プリズムに全反射の条件で偏光光を入射した際に生じるエバネッセント光によって前記金属の表面に表面プラズモン共鳴を誘起させ、その反射光を検出して前記測定試料の状態を測定するようにした表面プラズモンを利用した測定装置において、前記金属を変位手段を介してXYステージ上に保持し、前記光学プリズムと前記金属との距離が最適な表面プラズモン共鳴が生じる条件となるように、前記金属を前記変位手段により前記XYステージによる走査面と直交する方向に変位させながら、前記XYステージにより二次元走査し得るよう構成したことを特徴とする測定装置。
IPC (3)：
G01B 11/30
, G01B 11/14
, G01N 21/27
