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J-GLOBAL ID:200903072307969021
染色されたフォトレジストとその方法及びそれからなる工業製品
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐伯 憲生
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006290286
Publication number (International publication number):2007058236
Application date: Oct. 25, 2006
Publication date: Mar. 08, 2007
Summary:
【課題】 本発明は新規なフォトレジスト及びそれに用いる染料化合物を提供する。【解決手段】 本発明は、樹脂バインダー、光活性成分、特に酸発生剤、及び、1つ又はそれ以上の発色団を含有する染料物質からなる新規なフォトレジスト組成物に関する。本発明のフォトレジスト組成物は、照射線の望ましくない反射を減少させることができる。本発明の好ましい染料化合物は、遠紫外領域に吸収帯を有するアントラセンや他の多環式部分などからなる発色団を1つ又はそれ以上有する高分子物質である。
Claim (excerpt):
樹脂バインダー、光活性成分及びアントラセン基を含有する染料化合物からなるフォトレジスト組成物。
IPC (3):
G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
FI (3):
G03F7/004 506
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
F-Term (17):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB45
, 2H025CB51
, 2H025CB55
, 2H025CC13
, 2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-001807
Applicant:株式会社東芝
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染色されたフォトレジストとその方法及びそれからなる工業製品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-307762
Applicant:シップレーカンパニーエルエルシー
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化学増幅型感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-046672
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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