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J-GLOBAL ID：200903072329604906
投影露光方法及び装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994112974
Publication number (International publication number)：1995321016
Application date： May. 26, 1994
Publication date： Dec. 08, 1995
Summary：
【要約】【目的】 コンタクトホールパターン等の孤立的パターンの露光に際して、所望の焦点深度を得ると共に、近接した複数の孤立的パターンを露光する際に、誤転写が生じないようにする。【構成】 レチクルRのパタ-ン像を投影光学系PLを介してウエハW上に結像投影する投影露光装置において、投影光学系PLの瞳面付近に、中心部とその周辺の輪帯部とで所定の光学的位相差を与える位相型の瞳フィルターPF1を設ける。この瞳フィルターPF1の形状及び振幅透過率を、3回の分割露光を行うFLEX法との併用を前提として最適化する。更に、FLEX法の光軸AX方向における3回の分割露光における3つの位置における露光量比も所定の関係式により最適化し、且つその分割露光における光軸方向の位置の間隔も最適化する。
Claim (excerpt)：
転写用のパターンが形成されたマスクを露光用の照明光で照明し、前記マスクのパターンの像を投影光学系を介して感光性の基板上に結像投影する投影露光方法において、前記投影光学系によるフーリエ変換面、又は該フーリエ変換面の近傍の面で前記照明光が通過できる前記投影光学系の光軸を中心とする円形領域の半径をr2として、該半径r2の円形領域を、前記投影光学系の光軸を中心とする半径r1(r1<r2)の円形領域と、前記光軸を中心とする半径r1の円及び半径r2の円により囲まれた輪帯領域とに分け、前記輪帯領域を通過した照明光の振幅に対する前記円形領域を通過した照明光の振幅の比の値をtとして、該振幅の比の値tを0以下の値に設定し、前記半径r2に対する半径r1の比の値を前記振幅の比の値tに応じた値に設定すると共に、 前記基板と前記投影光学系の結像面との前記投影光学系の光軸方向への相対的な位置を順次間隔dだけ変えて行う3回の分割露光により前記マスクのパターン像を前記基板上に露光する際に、前記間隔dを前記投影光学系の開口数及び前記照明光の波長に応じて定まる間隔に設定し、且つ前記3回の分割露光における前記光軸方向の両端の位置での露光量を実質的に等しくして、前記3回の分割露光の内の前記光軸方向の中間位置での露光量を前記間隔dに応じて定めることを特徴とする投影露光方法。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 502 C
, H01L 21/30 515 C
