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J-GLOBAL ID：200903072356879666

非平衡反応用プレートフィン型反応器

Inventor： 中村 恵造 ,  久保 幸雄 ,  高谷 芳明 ,  堀江 哲次 ,  岩田 克雄
Applicant, Patent owner： 川崎重工業株式会社 ,  住友精密工業株式会社
Agent (1)： 押田 良久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993157854
Publication number (International publication number)：1994345404
Application date： Jun. 02, 1993
Publication date： Dec. 20, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 分解反応の熱力学的平衡関係を低温側にシフトさせる非平衡型反応器の提供。【構成】 反応物質通路2を挟み、一方に熱媒体通路3、他方に分解生成ガス通路4を積層配置し、入口ヘッダー13から反応物質通路2内に流入したメタノールは、向流関係にある隣接の熱媒体通路3からの入熱を受けてフィン6aにコーティングされた触媒により、メタノールの分解反応の熱力学的平衡関係より低温側で分解反応が促進されてCOとH2とに分解され、COは反応物質通路2を通って出口ヘッダー14からCOガスとして回収され、またH2はメンブレンプレート9の表面にコーティングされたガス分離膜9及び多孔質材料のセラミックス板8を通って分解生成ガス通路4に入り、出口ヘッダー15よりH2ガスとして回収される。【効果】 回収した熱エネルギーを化学反応物質の改質、分解吸熱反応を利用して化学エネルギーとして熱移送するシステムに使用できる。

Claim (excerpt)：

触媒を通路内に充填あるいは通路内のフィン又は/及びプレートに触媒をコーティングした反応物質通路を挟み、一方に熱媒体通路、他方にガス分離膜を有するプレートを介して分解生成ガス通路を積層配置したことを特徴とする非平衡反応用プレートフィン型反応器。

IPC (9)：

C01B 3/38 ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 71/02 500 ,  B01J 8/02 ,  B01J 19/00 ,  B01J 35/04 311 ,  C01B 3/22 ,  C01B 3/56 ,  F28F 3/08 301

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 特開昭63-084630
  
• 特開平2-311301
  
• 特開平4-337255
  
• 特開平4-325402
  
• 特開昭62-105901
  
• 特開平3-119094
  
• 特開平3-232701