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J-GLOBAL ID：200903072397905965

反射屈折型光学系及び該光学系を備える投影露光装置

Inventor： 高橋 和弘 ,  村木 真人
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992333105
Publication number (International publication number)：1994181163
Application date： Dec. 14, 1992
Publication date： Jun. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 微細パターンの方向性に依存しない解像力を得る。【構成】 偏光ビームスプリッター(3)と凹面鏡(6)とレンズ群(2、4、8)と1/4波長板(4)とを備え、レチクル1の微細パターンをウエハ(9)上に結像する反射屈折光学系において、偏光ビームスプリッターとウエハの間に偏光ビームスプリッターからのS偏光光を円偏光光に変換する1/4波長板(7)を設ける。

Claim (excerpt)：

物平面側から順に偏光ビームスプリッターと1/4波長板と凹面鏡を備えており、物平面からの光を偏光ビームスプリッターと1/4波長板を介して凹面鏡で反射した後、再度1/4波長と偏光ビームスプリッターを介して像平面に結像する反射屈折型光学系において、前記偏光ビームスプリッターと前記像平面の間に前記偏光ビームスプリッターからの偏光光の偏光面を変化させる手段を設けることを特徴とする反射屈折型光学系。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G02B 27/28 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521