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J-GLOBAL ID：200903072411968231
投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991260766
Publication number (International publication number)：1994045217
Application date： Oct. 08, 1991
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】 レチクルに対する照明条件を変更しても、常に高精度の結像特性のもとでウエハに対する露光を行う。【構成】 レチクルRの種類やそのパターンの微細度に対応して、レチクルRに対する照明条件(σ値、輪帯照明、複数傾斜照明等)を変更したときに、投影光学系の結像特性の変化量が所定の許容値以下となるまでの間、ウエハWに対する露光動作を停止する。
Claim (excerpt)：
光源からの照明光をほぼ均一な強度分布に成形するとともに、該均一な照明光を微細パターンを有するマスクに照射する照明光学系と、前記マスクのパターンの像を感光基板に結像投影する投影光学系と、該投影光学系の結像特性を制御する手段とを備えた投影露光装置において、前記マスクまたはそのパターンに対応して前記マスクに対する照明条件を変更する照明条件変更手段と;該照明条件を変更したときに、所定時間だけ前記感光基板に対する露光動作を停止する露光制御手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 7/207
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 311 G
, H01L 21/30 311 S
Cited by examiner (10)
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