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J-GLOBAL ID：200903072441202632

感光性ポリアミド酸エステル樹脂組成物のパターン加工方法

Inventor： 山本 光弘 ,  指田 暢幸 ,  番場 敏夫
Applicant, Patent owner： 住友ベークライト株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992252400
Publication number (International publication number)：1994102674
Application date： Sep. 22, 1992
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：

【要約】【構成】 ピロメリット酸二無水物と3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物とを、2-ヒドロキシ-1,3-ジメタクリロキシプロパンでエステル化し、4,4'-ジアミノジフェニルエーテルでアミド化したポリアミド酸エステルを主成分とする感光性樹脂組成物をジエチレングリコールジメチルエーテル50重量%、イソプロパノール50重量%の現像液で現像するパターン加工方法。【効果】 グリコールエーテル類を主成分に含む現像液が露光部を膨潤させないことにより現像時に発生するしわを解消でき、この結果感光性ポリアミド酸エステル樹脂組成物の高解像度で適正なパターン加工を、広い現像時間幅で可能とすることができる。

Claim (excerpt)：

下記式(1)で示すポリアミド酸エステルからなる感光性ポリアミド酸エステル樹脂組成物を、【化1】(A)下記式(2) CxH2X+1-(OCH2CH2)y-OCzH2z+1 (2)x=1〜4,y=1〜4,z=1〜4で示されるグリコールエーテル類のうち一種または二種以上の混合物30〜100重量%と、(B)N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、4-ブチロラクトン、ジメチルスルホオキシド、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン、エタノール、イソプロパノール、酢酸ブチルのうち一種または二種以上の混合物0〜70重量%からなる現像液で現像することを特徴とするパターン加工方法。

IPC (6)：

G03F 7/30 ,  C08L 79/08 LRB ,  G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 504 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-238052
  
• 特開昭50-138901