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J-GLOBAL ID：200903072441808468

プラズマ処理装置

Inventor： 木佐 俊正
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991167845
Publication number (International publication number)：1993013372
Application date： Jul. 09, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 プラズマ処理装置に関し、マイクロ波透過窓の信頼性を向上した装置構成を提供することを目的とする。【構成】 プラズマ発生室に供給されてくるガスにマイクロ波透過窓を通してマイクロ波を照射してガスを励起し、プラズマを発生させてガスのラジカルを作り、このラジカルを被処理基板に供給して化学反応を行わせる装置において、マイクロ波透過窓を透光性アルミナを用いて形成することを特徴としてプラズマ処理装置を構成する。

Claim (excerpt)：

プラズマ発生室に供給されてくるガスにマイクロ波透過窓を通してマイクロ波を照射して該ガスを励起し、プラズマを発生させて該ガスのラジカルを作り、該ラジカルを被処理基板に供給して化学反応を行わせる装置において、前記マイクロ波透過窓を透光性アルミナを用いて形成することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00