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J-GLOBAL ID：200903072452967614

物質組成及び構造分析方法

Inventor： 桂川 忠雄
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 柏木 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992182490
Publication number (International publication number)：1994027056
Application date： Jul. 09, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 不純物等がどの位置にあるかといった点も含めて物質表層の組成を分析し得るとともに、その構造をも分析し得るようにすること。【構成】 試料11表面にこの試料11の臨界角に近い視斜角θでX線12を入射させ、入射されたX線12の吸収によって試料11から発生する蛍光X線(又は2次電子線)13を2次元検出器14により検出することで、試料11最表面の組成に関して位置情報も含めて超微量分析可能とし、同時に、深さ方向の分析も可能とし、試料11最表面の原子的構造に関する情報も得られるようにした。

Claim (excerpt)：

試料表面にこの試料の臨界角に近い視斜角でX線を入射させ、入射されたX線の吸収によって前記試料から発生する蛍光X線又は2次電子線を2次元検出器により検出するようにしたことを特徴とする物質組成及び構造分析方法。

IPC (2)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/227