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J-GLOBAL ID：200903072454120686

ガス濃度測定方法およびその測定装置

Inventor： 山下 隆三 ,  糸井 廣 ,  内田 昌彦
Applicant, Patent owner： 東京電力株式会社 ,  日立電線株式会社
Agent (1)： 絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992052649
Publication number (International publication number)：1993256769
Application date： Mar. 11, 1992
Publication date： Oct. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 SN比特性を改善して低濃度でもガス検知を行うことができ、しかも、新たに圧力センサを設けることなく、圧力補正が行えるガス濃度測定方法およびその測定装置を提供すること。【構成】 駆動電流および温度に応じた波長および強度のレーザ光を発振する半導体レーザ1からのレーザ光を、Q(6)線に対応する波長を中心に任意の振幅(変調振幅ΔΩ)で変調させ、一定温度に保たれた測定ガス用セル4内のメタンガスに通し、各変調振幅におけるレーザ光の透過光の強度を光検出器8bで検出し、ロックインアンプ14、15により位相敏感検波すると共に、検波信号の変化により測定ガス用セル4内のメタンガスの濃度を補正することを特徴としている。

Claim (excerpt)：

駆動電流および温度に応じた波長および強度のレーザ光を発振するレーザを用い、このレーザの駆動電流あるいは温度を変化させて所定の波長を中心に任意の振幅で変調させたレーザ光を、一定温度に保たれたガス雰囲気に通し、各変調振幅におけるレーザ光の透過光の強度を検出し、この検出信号中の特定成分を位相敏感検波すると共に、検波信号の変化により上記雰囲気圧力下での特定ガスの濃度を測定することを特徴とするガス濃度測定方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平3-277945
  
• 特開昭63-270270
  
• 特開昭62-088943
  
• 特開平3-239652
  
• 特開平1-100437