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J-GLOBAL ID：200903072460675703

超音波処理装置

Inventor： 佐々木 隆好 ,  樫山 恒太郎
Applicant, Patent owner： 大同メタル工業株式会社
Agent (1)： 横井 俊之 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994191746
Publication number (International publication number)：1996033877
Application date： Jul. 22, 1994
Publication date： Feb. 06, 1996
Summary：

【要約】【目的】超音波洗浄装置による洗浄槽内の溶存気体量を少なくして洗浄を効率ようく行う。【構成】洗浄槽10内に貯留された洗浄液Fは、超音波振動子11のキャビテーション現象により、洗浄液F内に浸漬した被処理物の洗浄を行う。この処理液Fは排液ポンプP1によって排液パイプQ1から脱気槽20内に送給し、給液ポンプP2によって給液パイプQ2から洗浄槽10内に循環する。真空状態の脱気槽20により、洗浄液中に溶存している気体が気泡となって脱気されるために、溶存気体の少ない洗浄液Fが洗浄槽10内に貯留される。このため、超音波振動子11によって洗浄液Fの発泡が少なく、効率よく洗浄を行うことができる。

Claim (excerpt)：

超音波発生手段を設けるとともに処理液を貯留する処理槽と、真空容器からなる脱気槽とを備え、この処理槽内の処理液を前記脱気槽との間に循環して、処理液中に溶存する気体を真空雰囲気で脱気することを特徴とする超音波処理装置。