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J-GLOBAL ID:200903072462030688

光源の解体成形装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 澤木 誠一 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1995505788
Publication number (International publication number):1996512003
Application date: Feb. 25, 1994
Publication date: Dec. 17, 1996
Summary:
【要約】光源(7)から発光される光束を均質化し所定の方向に指向せしめる光源解体成形装置(6)が示されている。この装置は、光が装置から反射し、または装置を通過した後指向される方向を制御する微細彫刻組織を有する。この彫刻組織は、これを通る所定の方向に指向された光を均質化する。この装置は、光源からの光を均質化し、指向せしめることを求める用途に用い得る。この用途には、従来の拡散体では対応できない拡散を含む。この均質化及び成形装置によれば、光伝導度及び反射効率を高め、サイドローブを減少できる。
Claim (excerpt):
a.拡散する干渉光を用い感光性媒体内に彫刻面組織を形成する工程と、 b.上記感光性媒体を処理する工程と、及び c.上記感光性媒体の上記彫刻面組織の複製を作る工程と より成る均質化装置の製造方法。
IPC (6):
B29D 11/00 ,  G02B 5/02 ,  G02B 5/32 ,  G02B 19/00 ,  G02F 1/1335 530 ,  G03H 1/02
FI (6):
B29D 11/00 ,  G02B 5/02 B ,  G02B 5/32 ,  G02B 19/00 ,  G02F 1/1335 530 ,  G03H 1/02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭55-089806

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