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J-GLOBAL ID:200903072472629642

イオン発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992120507
Publication number (International publication number):1993312998
Application date: May. 13, 1992
Publication date: Nov. 26, 1993
Summary:
【要約】【目的】 簡単な構成により、効率よくイオンを発生させる。【構成】 X線の主要波長を15ないし2オングストロームの範囲に有し、Be窓を有するX線管を備え、Be窓からX線が照射される領域にイオン化すべき元素を含ませることを特徴とする。イオン発生のためのエネルギー源として、軟X線を利用する場合について考察すると、軟X線の波長が長いときには、Beによる吸収損失がN2 ,O2 などによる吸収に比べて増加するようになり、約20オングストローム以上は損失割合が急増するため不利であることがわかった。一方、軟X線の波長が短くなり、2オングストローム以下になると、雰囲気による吸収が小さくなり、目的のイオン化に適しない。このイオン発生装置に使用されるX線管は、例えばターゲット電圧5kV、ターゲット電流20μA程度でよく、電源容量も小さくてすみ、小型で扱い易く、雑音を発生しない利点がある。
Claim (excerpt):
主要波長が15ないし2オングストロームの範囲のX線を発生し、このX線をベリリウム窓から出射するX線管を備え、前記ベリリウム窓から前記X線が照射される領域にイオン化すべき物質を含ませることを特徴とするイオン発生装置。
IPC (6):
G21H 5/00 ,  G21K 5/02 ,  H01J 27/16 ,  H01J 37/08 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/302
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭62-222634
  • 特開平1-262500
  • 特開平3-215800

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