Pat

J-GLOBAL ID：200903072481946839

超純水製造装置

Inventor： 古川 征弘 ,  小泉 求
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995180018
Publication number (International publication number)：1997029251
Application date： Jul. 17, 1995
Publication date： Feb. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】 溶存酸素量が著しく低い超純水を製造する。【解決手段】 前処理工程より得られた一次純水をサブタンク11、ポンプ12、熱交換器13、低圧紫外線酸化装置14、イオン交換装置15、膜式脱気装置16及び限外濾過膜分離装置17に順次に通水し、得られた極低溶存酸素の超純水をユースポイント18に送る。

Claim (excerpt)：

一次純水を導入し、少なくとも紫外線照射酸化装置とイオン交換純水装置とを有するサブシステムに通水して超純水を得る超純水製造装置において、該イオン交換純水装置の後段に膜式脱気装置を配置したことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (4)：

C02F 1/44 ,  B01D 19/00 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/32

FI (4)：

C02F 1/44 J ,  B01D 19/00 H ,  C02F 1/20 Z ,  C02F 1/32