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J-GLOBAL ID：200903072485853037

磁気記録媒体用スパッタリングターゲットおよびその製造方法

Inventor： 谷口 繁 ,  川上 章 ,  村田 英夫
Applicant, Patent owner： 日立金属株式会社
Agent (1)： 大場 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993093608
Publication number (International publication number)：1994104120
Application date： Mar. 29, 1993
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束を確保できると共に異常放電が発生しにくく、かつ生成する磁性膜に優れた磁気特性と記録再生特性が得られる磁気記録媒体用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。【構成】 本発明のターゲットは、化学組成が原子%で、Ni 5〜30%、Cr 5〜14%、V 6%以下、残部Coと不可避的不純物からなる合金であって、好ましくは平均結晶粒径が300μm以下、最大透磁率が100以下のスパッタリングターゲットである。また好ましくはターゲットに加工歪を残留させ、最大透磁率を低くする。また本発明の製造方法は、上記化学組成の合金に温間または冷間加工処理を施すことを特徴とする磁気記録媒体用スパッタリングターゲットの製造方法である。

Claim (excerpt)：

化学組成が原子%で、Ni 5〜30%、Cr 5〜14%、V 6%以下、残部Coと不可避的不純物からなる合金であることを特徴とする磁気記録媒体用スパッタリングターゲット。

IPC (4)：

H01F 10/16 ,  C22C 19/07 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/85