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J-GLOBAL ID：200903072526238539

樹脂製ブラックマトリクスの製造方法、該ブラックマトリクスを用いたカラ-フィルタの製造方法、及び該製造方法で製造されたカラ-フィルタを用いた液晶素子

Inventor： 坂本 淳一 ,  小佐野 永人 ,  岩田 研逸 ,  小久保 智
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 渡辺 敬介 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999314771
Publication number (International publication number)：2000199967
Application date： Nov. 05, 1999
Publication date： Jul. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ネガ型のブラックレジストをプロキシミティ露光によりフォトマスクのパターンに忠実にパターン形成する。【解決手段】 ネガ型のブラックレジストをフォトマスクを介してプロキシミティ露光する際に、露光量を14.0〜70.0mJ/cm2の範囲に設定して行う。

Claim (excerpt)：

基板上にネガ型ブラックレジストを形成する工程と、フォトマスクを介して前記レジストを14.0〜70.0mJ/cm2の露光量で露光する工程と、露光された前記レジストを現像してパターンを形成する工程とを有することを特徴とする樹脂製ブラックマトリクスの製造方法。

IPC (3)：

G03F 7/20 501 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500

FI (3)：

G03F 7/20 501 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500