Pat
J-GLOBAL ID:200903072529272126

高分子固定化ルテニウム触媒及びその使用

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 下田 昭 ,  赤尾 謙一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005023699
Publication number (International publication number):2006205124
Application date: Jan. 31, 2005
Publication date: Aug. 10, 2006
Summary:
【課題】 本発明は、ルテニウム触媒を両親媒性の架橋性高分子中に固定することにより調整された、高分子固定化ルテニウム触媒を用いる有機合成反応方法を提供する。 【解決手段】 ルテニウムを架橋高分子に担持させてなる高分子固定化ルテニウム触媒であって、該架橋高分子が芳香族側鎖及び親水性側鎖を有する架橋性高分子を架橋させてなることを特徴とする高分子固定化ルテニウム触媒である。この高分子担持ルテニウム触媒は、例えば極性溶媒を含む溶液中で該架橋性高分子に該ルテニウムの超微粒子を担持したミセルを形成した後、該架橋性高分子を架橋反応に付すことによって形成されることが好ましい。この触媒は、アルコールやスルフィドの酸化反応に用いることができる。 【選択図】 なし
Claim (excerpt):
ルテニウムを架橋高分子に担持させてなる高分子固定化ルテニウム触媒であって、該架橋高分子が、芳香族側鎖、親水性側鎖及び架橋基を有することを特徴とする高分子固定化ルテニウム触媒。
IPC (11):
B01J 31/06 ,  C07B 41/06 ,  C07B 45/04 ,  C07C 45/29 ,  C07C 47/02 ,  C07C 47/20 ,  C07C 47/54 ,  C07C 49/203 ,  C07C 49/403 ,  C07C 315/02 ,  C07C 317/14
FI (11):
B01J31/06 Z ,  C07B41/06 A ,  C07B45/04 ,  C07C45/29 ,  C07C47/02 ,  C07C47/20 ,  C07C47/54 ,  C07C49/203 A ,  C07C49/403 A ,  C07C315/02 ,  C07C317/14
F-Term (48):
4C023DA02 ,  4C037EA03 ,  4C037EA05 ,  4C204AB01 ,  4C204BB04 ,  4C204CB03 ,  4C204DB16 ,  4C204EB02 ,  4C204FB27 ,  4C204GB01 ,  4G169AA04 ,  4G169AA08 ,  4G169BA22A ,  4G169BA22B ,  4G169BC70A ,  4G169BC70B ,  4G169BE06A ,  4G169BE08A ,  4G169BE13A ,  4G169BE14A ,  4G169BE21A ,  4G169BE37A ,  4G169BE37B ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169CB07 ,  4G169DA08 ,  4G169EA01Y ,  4G169FA01 ,  4G169FB41 ,  4H006AA02 ,  4H006AC44 ,  4H006AC45 ,  4H006BA23 ,  4H006BA48 ,  4H006BA55 ,  4H006BA60 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BB16 ,  4H006BB21 ,  4H006BB25 ,  4H039CA42 ,  4H039CA62 ,  4H039CA80 ,  4H039CC20 ,  4H039CC60 ,  4H039CH20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 金属化合物組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-181695   Applicant:和光純薬工業株式会社, 小林修
  • マイクロカプセル化金属触媒
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-059742   Applicant:科学技術振興事業団
  • パラジウム触媒組成物
    Gazette classification:再公表公報   Application number:JP2003011131   Applicant:独立行政法人科学技術振興機構
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page