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J-GLOBAL ID：200903072589892751
投影露光用のマスク又はレチクル並びに転写用マスク、 及びそれらによる露光又は転写パターン
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993185963
Publication number (International publication number)：1995043884
Application date： Jul. 28, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：
【要約】【目的】 多種類の所望の線幅を有するパターンを形成できる投影露光用のマスク又はレチクル並びに転写用マスク、及びそれらによる露光又は転写パターンを提供する。【構成】 多種類の設計線幅を有するパターンを設けた投影露光用のマスクM又はレチクルにおいて、前記マスク上又はレチクル上のパターンを投影露光して得られる露光パターンが有する多種類の線幅がそれぞれ所望の線幅となるように、対応する前記所望の各線幅との比をそれぞれ独立的に設定した多種類の設計線幅、を有するパターンを設けたことを特徴とする投影露光用のマスク又はレチクル。
Claim (excerpt)：
多種類の設計線幅を有するパターンを設けた投影露光用のマスク又はレチクルにおいて、前記マスク上又はレチクル上のパターンを投影露光して得られる露光パターンが有する多種類の線幅がそれぞれ所望の線幅となるように、対応する前記所望の各線幅との比をそれぞれ独立的に設定した多種類の設計線幅、を有するパターンを設けたことを特徴とする投影露光用のマスク又はレチクル。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 515 F
