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J-GLOBAL ID：200903072593008955

ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： 河辺 保雅 ,  上西 一也 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991239698
Publication number (International publication number)：1993080509
Application date： Sep. 19, 1991
Publication date： Apr. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】 特に半導体デバイス等の製造において、高感度で解像力、現像性、耐熱性、レジスト形状に優れたレジストパターンが得られるポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)キノンジアジド化合物、及び(c)ポリヒドロキシ化合物の水酸基の少なくとも一部が一般式(I)で表されるスルホニル化剤によりスルホニル化されたアルカリ可溶性低分子化合物を含有する。【化1】

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、及びポリヒドロキシ化合物の水酸基の少なくとも一部が一般式(I)で表されるスルホニル化剤によりスルホニル化されたアルカリ可溶性低分子化合物を含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027