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J-GLOBAL ID：200903072595268768

廃水処理における臭気防止方法及び臭気防止装置

Inventor： 山崎 厚
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (6)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004157819
Publication number (International publication number)：2005334780
Application date： May. 27, 2004
Publication date： Dec. 08, 2005
Summary：

【課題】本発明は、廃水処理の過程で悪臭物質である硫化ジメチルを発生させず、排ガス洗浄装置や薬品タンク等の付加設備を不要とすることを課題とする。【解決手段】ジメチルスルホキシドを含有する廃水処理工程中で発生する有機硫黄化合物の臭気を防止する廃水処理における臭気防止方法において、前記廃水処理工程中におけるジメチルスルホキシド含有廃水を滞留する箇所がゼロであり、且つ前記ジメチルスルホキシド含有廃水を生物処理槽2へ直接連続流入させることにより、ジメチルスルホキシドの状態を保ちつつ汚泥に転換することを特徴とする廃水処理における臭気防止方法。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

ジメチルスルホキシドを含有する廃水処理工程中で発生する有機硫黄化合物の臭気を防止する廃水処理における臭気防止方法において、

IPC (1)：

C02F3/12

FI (4)：

C02F3/12 V ,  C02F3/12 H ,  C02F3/12 J ,  C02F3/12 U

F-Term (10)：

4D028AA03 ,  4D028AB00 ,  4D028AC06 ,  4D028BB00 ,  4D028BD01 ,  4D028BD06 ,  4D028CA01 ,  4D028CA09 ,  4D028CC01 ,  4D028CD05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• DMSO含有水の処理装置及び半導体工場排水の処理設備
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-162714   Applicant：栗田工業株式会社
• 排水の処理方法とその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-240459   Applicant：シャープ株式会社, 神鋼パンテツク株式会社
• ジメチルスルホキシドを含有する排水の処理方法及びジメチルスルホキシドを分解する微生物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-267523   Applicant：野村マイクロ・サイエンス株式会社
• 有機硫黄化合物含有廃水の処理方法とその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-090946   Applicant：神鋼パンテツク株式会社, シャープ株式会社
• スルホキシド類含有廃水の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-145666   Applicant：日本電気株式会社