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J-GLOBAL ID：200903072603701611

光断層画像化方法および装置

Inventor： 長谷川 一英 ,  辻田 和宏
Applicant, Patent owner： 富士フイルム株式会社 ,  フジノン株式会社
Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006096793
Publication number (International publication number)：2007267927
Application date： Mar. 31, 2006
Publication date： Oct. 18, 2007
Summary：

【課題】光断層画像化方法および装置において、測定対象で生じる分散の影響を抑制する。【解決手段】光源ユニット10から射出された光Lを測定光L1と参照光L2とに分割し、測定光L1を生物学的な測定対象Sに照射し、測定対象Sからの反射光L3と参照光L2とを合波し、合波された反射光L3と参照光L2との干渉光L4を検出し、検出された干渉光L4から測定対象Sの断層画像を取得する光断層画像化方法において、参照光L2の光路に水分含有量が70質量%以上の媒質27を配置して、測定対象Sで生じる分散の影響を抑制する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

光源ユニットから射出された光を測定光と参照光とに分割し、 前記測定光を生物学的な測定対象に照射し、該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波し、 合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を検出し、 検出された前記干渉光から前記測定対象の断層画像を取得する光断層画像化方法において、 前記参照光の光路に水分含有量が70質量%以上の媒質を配置して、前記測定対象で生じる分散の影響を抑制することを特徴とする光断層画像化方法。

IPC (3)：

A61B 1/00 ,  G01N 21/17 ,  A61B 10/00

FI (3)：

A61B1/00 300D ,  G01N21/17 625 ,  A61B10/00 E

F-Term (41)：

2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE11 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059NN01 ,  4C061AA01 ,  4C061AA03 ,  4C061AA04 ,  4C061AA16 ,  4C061AA22 ,  4C061BB00 ,  4C061CC07 ,  4C061DD04 ,  4C061FF46 ,  4C061FF47 ,  4C061HH51 ,  4C061MM10 ,  4C061NN01 ,  4C061NN05 ,  4C061PP12 ,  4C061QQ09 ,  4C061RR06 ,  4C061RR18 ,  4C061RR26 ,  4C061SS21 ,  4C061WW04 ,  4C061WW11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 光ファイバ撮像ガイドワイヤ、カテーテルまたは内視鏡を用いて光学測定を行う方法および装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-531100   Applicant：マサチューセッツインスティテュートオブテクノロジー