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J-GLOBAL ID：200903072612212640

ナノインプリント用型、装置および方法

Inventor： 春見 和之 ,  太田 裕久 ,  川上 英悟 ,  中村 卓 ,  時田 俊伸
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005265580
Publication number (International publication number)：2007081048
Application date： Sep. 13, 2005
Publication date： Mar. 29, 2007
Summary：

【課題】 パターンを壊すことなく、高速に離型を行うことのできるナノインプリント装置を提供する。【解決手段】 パターンが形成されたモールド101を基板104上に配置された応力発光材料を含有した液体もしくは粘性体401に押しつけることでパターン転写を行う装置において内部に有したアクチュエータ102で離型開始点を作る。また、離型時の応力変化によって発生する光を検出する光センサ402を備え離型開始点と離型開始タイミングを検出して、離型動作を制御する。【選択図】 図4

Claim (excerpt)：

パターンが形成された型(モールド)を、基板上に配置された液体、もしくは粘性体に押し付けることでパターン転写を行うための型(モールド)であって、型(モールド)にアクチュエータを内蔵することを特徴とするパターン転写を行うための型。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  B82B 1/00 ,  B29C 33/24 ,  B29C 59/02

FI (4)：

H01L21/30 502D ,  B82B1/00 ,  B29C33/24 ,  B29C59/02 B

F-Term (29)：

4F202AB01 ,  4F202AC05 ,  4F202AC06 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AP20 ,  4F202AQ01 ,  4F202AR08 ,  4F202CA30 ,  4F202CB01 ,  4F202CK74 ,  4F202CM03 ,  4F209AA36 ,  4F209AA44 ,  4F209AC05 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• USP6309581号公報