有害物質処理方法とその装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：橋本剛 , 鵜澤英久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008083523
Publication number (International publication number)：2009233590
Application date： Mar. 27, 2008
Publication date： Oct. 15, 2009
Summary：

【課題】還元剤を添加することなくガス中の有害物質を安価に無害化する。【解決手段】有害物質処理装置1はガスが供給されるガス通過部2と、このガス通過部2内に供給されたガスと接触させる光触媒フィルタ3(光触媒部材)と、この光触媒フィルタ3に含まれる光触媒の励起に必要な光を光触媒フィルタ3に照射する光源5を備える。光触媒フィルタ3は前記ガスに含まれる有害物質よりも酸化還元電位の高い金属または金属酸化物または金属水酸化物が担持された光触媒を含む。前記有害物質が二酸化窒素である場合、前記光触媒に担持させる金属または金属酸化物は銅または酸化銅である。前記光触媒は酸化チタン光触媒である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

有害物質よりも酸化還元電位の高い金属または金属酸化物または金属水酸化物を担持させた光触媒に光触媒の励起に必要な光を照射すると共に前記有害物質を含んだガスを接触させることで前記有害物質を還元することを特徴とする有害物質処理方法。

IPC (4)：

B01J 35/02 , B01J 23/72 , B01D 53/86 , B01D 53/94

FI (4)：

B01J35/02 J , B01J23/72 M , B01D53/36 J , B01D53/36 102C

F-Term (30)：

4D048AA06 , 4D048AB02 , 4D048AB03 , 4D048AC10 , 4D048BA07X , 4D048BA35X , 4D048BB03 , 4D048CD05 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA04A , 4G169BA04B , 4G169BB02A , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BC31A , 4G169BC31B , 4G169CA10 , 4G169CA13 , 4G169EA11 , 4G169EB15Y , 4G169FA02 , 4G169FB14 , 4G169HA20 , 4G169HB02 , 4G169HB06 , 4G169HC02 , 4G169HC29 , 4G169HD10 , 4G169HE02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

舗装用ブロック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-167170 Applicant：三菱マテリアル株式会社
脱硝装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-208039 Applicant：株式会社明電舎

Cited by examiner (7)

TiO2 系複合超微粒子及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-109172 Applicant：ワイケイケイ株式会社
窒素酸化物除去性能にすぐれた酸化チタン光触媒
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-055148 Applicant：テイカ株式会社
酸化チタン担持光触媒シリカゲルおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-093726 Applicant：新東ブイセラックス株式会社, 岐阜県

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