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J-GLOBAL ID:200903072666364070
酸化錫膜とその製造方法および酸化錫膜の製造装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡辺 望稔 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999231082
Publication number (International publication number):2001059175
Application date: Aug. 18, 1999
Publication date: Mar. 06, 2001
Summary:
【要約】【課題】シート抵抗が小さく、透過率が高く、かつ、ヘイズ率が高い酸化錫膜であって、表面に微細な凹凸を均一に有する酸化錫膜の提供。【解決手段】四塩化錫と水とを反応させて一方向に移動するガラス基板上に酸化錫膜を常圧CVD法により形成する酸化錫膜の製造方法であって、四塩化錫および水を含有するガスをガラス基板上に吐出して酸化錫膜を形成させる際の雰囲気が、ガラス基板の移動方向の上流側の方が下流側より水濃度が高い雰囲気であることを特徴とする酸化錫膜の製造方法。
Claim (excerpt):
四塩化錫と水とを反応させて一方向に移動するガラス基板上に酸化錫膜を常圧CVD法により形成する酸化錫膜の製造方法であって、四塩化錫および水を含有するガスをガラス基板上に吐出して酸化錫膜を形成させる際の雰囲気が、ガラス基板の移動方向の上流側の方が下流側より水濃度が高い雰囲気であることを特徴とする酸化錫膜の製造方法。
IPC (4):
C23C 16/40
, C01G 19/02
, C03C 17/245
, H01L 31/04
FI (4):
C23C 16/40
, C01G 19/02 C
, C03C 17/245 Z
, H01L 31/04 M
F-Term (17):
4G059AA01
, 4G059AC12
, 4G059EA02
, 4G059EB01
, 4K030AA03
, 4K030BA45
, 4K030CA06
, 4K030EA06
, 4K030LA01
, 4K030LA11
, 5F051BA14
, 5F051CA15
, 5F051CB27
, 5F051FA03
, 5F051FA19
, 5F051FA24
, 5F051GA03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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