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J-GLOBAL ID:200903072672002296

グリ-ス組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 秀策
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999140861
Publication number (International publication number):1999349974
Application date: May. 20, 1999
Publication date: Dec. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】 ASTM方法D-2265により測定したとき、上昇した滴点を有する金属石鹸増粘化ベースグリースを提供すること。【解決手段】 単純金属石鹸増粘化グリース、錯体グリースおよび失敗錯体グリースからなる群から選択される主要量のオイルベースの金属石鹸増粘化ベースグリースは、少なくとも1種のイオウおよびリン含有組成物、有機酸のオーバーベース化金属塩、亜リン酸ヒドロカルビル、および脂肪族基置換カルボン酸またはそれらの無水物を、該ベースグリースの滴点をASTM手順D-2265で測定したとき少なくとも約15°C上昇させるのに充分な量で含有し、ここで、該脂肪族基は、少なくとも約12個の炭素原子を含有する。
Claim (excerpt):
単純金属石鹸増粘化グリース、錯体グリースおよび失敗錯体グリースからなる群から選択される主要量のオイルベースの金属石鹸増粘化ベースグリース、および以下の(A)、(B)、(C)および(D)を含有する、改良されたグリース組成物:(A)約0.25重量%から約10重量%の有機酸のオーバーベース化金属塩;(B)約0.25重量%から約5重量%の、以下の(B-1)、(B-2)、(B-3)および(B-4)からなる群から選択されるリンおよびイオウ含有組成物:(B-1)次式により表される化合物:【化1】ここで、各X1、X2、X3およびX4は、独立して、酸素またはイオウであるが、但し、少なくとも1個はイオウであり、各aおよびbは、独立して、0または1であり、そして、ここで、各R1、R2およびR3は、独立して、水素、ヒドロカルビル、または次式の基であり:【化2】ここで、各R4およびR5は、独立して、水素またはヒドロカルビルであるが、但し、R4およびR5の少なくとも1個はヒドロカルビルであり、R6はアルキレン基またはアルキリデン基であり、各aおよびbは、独立して、0または1であり、そして各X5、X6、X7およびX8は、独立して、酸素またはイオウであるか、あるいは式-R6OHの基であって、ここで、R6は、アルキレン基またはアルキリデン基である;(B-2)少なくともR3が水素のときの(B-1)のアミン塩またはアンモニウム塩;(B-3)次式により表わされる化合物:【化3】ここで、各R7、R8およびR9は、独立して、水素またはヒドロカルビル基であるが、但し、少なくとも1個はヒドロカルビルであり、そして各X9、X10およびX11は、酸素またはイオウであるが、但し、少なくとも1個はイオウである;および(B-4)(B-1)から(B-3)のうちの2種またはそれ以上の混合物;(C)約0.25重量%から約5重量%の亜リン酸ヒドロカルビル;および(D)約0.025重量%から約2重量%の脂肪族基置換カルボン酸またはそれらの無水物であって、ここで、該脂肪族基は、少なくとも約12個の炭素原子を含有し、ここで、該ベースグリースの滴点は、ASTM手順D-2265で測定したとき、少なくとも約15°C上昇する。
IPC (3):
C10M115/12 ,  C10M115/10 ,  C10N 50:10
FI (2):
C10M115/12 ,  C10M115/10

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