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J-GLOBAL ID：200903072672322991

セラミック成形体の乾燥方法及び装置

Inventor：
佐藤 立

About 佐藤 立


Applicant, Patent owner：
日本碍子株式会社

About 日本碍子株式会社


Agent (1)： 杉村 暁秀 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998061473
Publication number (International publication number)：1998325676
Application date： Mar. 12, 1998
Publication date： Dec. 08, 1998
Summary：
【要約】【課題】片面が凹凸のある複雑面であり、反対面が前記複雑面よりも凹凸の少ない単純面であるセラミック成形体を、乾燥切れを生じさせることなく短時間で乾燥させることができる方法と装置を提供する。【解決手段】乾燥室(1)内に配置されたセラミック成形体(3)を、その単純面(3b、4b)側に設置された主赤外線ヒーター(6)により主として単純面側から加熱して乾燥させる。好適には、セラミック成形体(3)を複雑面(3a、4a)側に配置された比較的低温の補助赤外線ヒーター(7)により補助加熱し、及び/又は乾燥室(1)内に温風を低速で流しながら乾燥させる。
Claim (excerpt)：
比較的凹凸に富んだ第1表面と、第1表面よりも凹凸の少ない第2表面とを有するセラミック成形体を、第2表面側に設置した主赤外線ヒーターにより主として第2表面側から加熱することを特徴とする、セラミック成形体の乾燥方法。
IPC (5)：
F26B 3/30 ,  C04B 33/30 ,  C04B 35/64 ,  H01B 19/00 301 ,  H01B 19/02
FI (5)：
F26B 3/30 ,  C04B 33/30 C ,  H01B 19/00 301 ,  H01B 19/02 ,  C04B 35/64 D
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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