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J-GLOBAL ID：200903072683303190

感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法

Inventor： 逆水 登志夫 ,  新井 唯 ,  加藤 幸治 ,  粕谷 圭 ,  橋本 通晰
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999319031
Publication number (International publication number)：2001133967
Application date： Nov. 10, 1999
Publication date： May. 18, 2001
Summary：

【要約】【課題】感度、解像度、パタン形状に優れた感放射線組成物およびこれを用いたパタン形成方法を提供する。【解決手段】(a)特性基としてフッ素原子を有する炭素数が4から8までのアルキルスルホニルハライド、または特性基としてフッ素原子を有する炭素数が4から8までのアルコキシアルキルスルホニルハライドから誘導されるスルホン酸エステルおよび(b)酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性を変化させる反応性を持った媒体を少なくとも含む感放射線組成物。

Claim (excerpt)：

(a)特性基としてフッ素原子を有する炭素数が4から8までのアルキルスルホニルハライド、または特性基としてフッ素原子を有する炭素数が4から8までのアルコキシアルキルスルホニルハライドから誘導されるスルホン酸エステルおよび(b)酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性を変化させる反応性を持った媒体を少なくとも含むことを特徴とする感放射線組成物。

IPC (6)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/38 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/38 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/30 502 P

F-Term (33)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB08 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025CB41 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H025FA41 ,  2H095BB03 ,  2H095BB10 ,  2H095BB15 ,  2H095BB16 ,  2H095BB38 ,  2H095BC01 ,  2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096AA30 ,  2H096BA11 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA23