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J-GLOBAL ID：200903072694528003

熱転写方式による蛍光膜形成方法およびそれに用いる蛍光膜形成用転写材

Inventor： 篠原 秀雄 ,  黒田 勝彦 ,  小栗 康生 ,  内田 博
Applicant, Patent owner： 三菱化成株式会社 ,  化成オプトニクス株式会社 ,  ソニー株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993051091
Publication number (International publication number)：1994267419
Application date： Mar. 11, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ガラス基板上に、特に陰極線管のフェースプレート上に蛍光膜を容易に効率よく形成することのできる蛍光膜形成方法およびその方法を用いる転写材を提供する。【構成】 少なくとも蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性蛍光体層がベースフィルム上に形成された転写材を用い、前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上に熱転写方式によって転写し、焼成して前記蛍光体層のバインダーを除去して蛍光膜を前記ガラス基板上に形成する蛍光膜形成方法であって、前記転写材が赤、緑、青に対応する蛍光体層を同一基材上にパターン状に隣接して有しており、赤、緑、青の蛍光体層を転写した後、焼成することを特徴とする蛍光膜形成方法。

Claim (excerpt)：

少なくとも蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性蛍光体層がベースフィルム上に形成された転写材を用い、前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上に熱転写方式によって転写し、焼成して前記蛍光体層のバインダーを除去して蛍光膜を前記ガラス基板上に形成する蛍光膜形成方法であって、前記転写材が赤、緑、青に対応する蛍光体層を同一基材上にパターン状に隣接して有しており、赤、緑、青の蛍光体層を転写した後、焼成することを特徴とする蛍光膜形成方法

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-342923
  
• 特開平1-241733
  
• 特開平4-342923
  
• 特開平1-241733