光学装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：稲本義雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993279266
Publication number (International publication number)：1995098247
Application date： Nov. 09, 1993
Publication date： Apr. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】被検出物体の位置変動、傾き変動による影響が少なく、また被検出物体の種類判別および有無検知が可能な光学装置を提供する。【構成】筐体1内には、被検知物体2に対して光を出射する発光手段としての例えばLED3が配置されており、LED3より出射された光は、被検知物体2に対して斜め方向から投射される。被検知物体2に対して出射された投射光は、被検知物体2によって反射され、筐体1内に配置された受光手段によって受光される。この受光手段は、偏光ビームスプリッタ4と、第1と第2の受光素子5、6より構成している。前記偏光ビームスプリッタ4は、斜め方向から入射する反射光のうち、S偏光成分を偏光ビームスプリッタ4の表面において反射し、第1の受光素子5に投射する。また、P偏光成分は偏光ビームスプリッタ4を透過し、第2の受光素子6に投射する。

Claim (excerpt)：

被検知物体に対して光を出射する発光手段と、前記被検知物体を反射、透過もしくは被検知物体により一部散乱した前記発光手段からの光のいずれかを受光する受光手段と、を備えた物体の種類判別もしくは有無を検知する光学装置において、前記受光手段は、前記被検知物体からの光、もしくは前記被検知物体により一部散乱した光のうち複数の偏光成分を別個に受光することを特徴とする光学装置。

IPC (3)：

G01J 1/02 , G01B 11/00 , G01V 8/14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭63-052284
エリプソパラメータ測定方法及びエリプソメータ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-297091 Applicant：日本鋼管株式会社
限定反射形センサ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-203315 Applicant：オムロン株式会社

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