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J-GLOBAL ID：200903072761230685

露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

Inventor： 斉藤 謙治
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997354130
Publication number (International publication number)：1999176736
Application date： Dec. 08, 1997
Publication date： Jul. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】 物体面上に形成されているアライメントマークの位置を精密に測定し、微細な電子回路パターンを逐次作成する際に好適な露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 レジストを塗布した基板面上に露光光を照射して、その面上にパターンを形成する露光装置において、パターンの微細構成の種類に基づいて異なった露光手段を用いていること。

Claim (excerpt)：

レジストを塗布した基板面上に露光光を照射して、その面上にパターンを形成する露光装置において、パターンの微細構成の種類に基づいて異なった露光手段を用いていることを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 502 A ,  G03F 7/20 521