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J-GLOBAL ID：200903072769284717

界面活性剤

Inventor：
山脇 幸男

About 山脇 幸男

, 
山本 伸一

About 山本 伸一


Applicant, Patent owner：
旭化成株式会社

About 旭化成株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001077524
Publication number (International publication number)：2002167313
Application date： Mar. 19, 2001
Publication date： Jun. 11, 2002
Summary：
【要約】【課題】 皮膚などへの刺激性が小さく、かつ低濃度でも十分な界面活性能を有するアニオン性界面活性剤を提供する。【解決手段】 下記式(1)に示されるアシル基含有組成物が優れた界面物性を示し、これを用いることで低濃度での界面活性能等に優れ、皮膚などに対して低刺激性である界面活性剤および香粧品原料が得られる。【化1】
Claim (excerpt)：
一般式(1)で表されるアシル化合物の少なくとも1種または2種以上を含有するアシル基含有組成物からなることを特徴とする界面活性剤。【化1】(一般式(1)において、n個のZはXに置換したm個(m≧n)の官能基に由来する結合部であり、それぞれ独立で、すなわち、同一でも異なっていてもよく、Xは前記官能基以外の置換基を有していてもよい炭素数0〜40の直鎖または分枝鎖または環状鎖または芳香族炭化水素鎖であるスペーサーであり、Zを介してXに付くn個の一般式(2)で表される置換基はそれぞれ独立で、すなわち、同一でも異なっていてもよく、R1COは炭素原子数8〜20の飽和または不飽和の脂肪酸から誘導される長鎖アシル基を示し、R2は水素であるか、またはヒドロキシル基またはカルボキシル基が置換していてもよい炭素原子数1〜3の低級アルキル基を示し、Yはカルボキシル基またはそれらの塩を示し、j、kはそれぞれ独立に0,1,2のいずれかであり、かつj、kは同時に0ではなく、nは2〜20の整数を示す)。【化2】
IPC (6)：
A61K 7/075 ,  A61K 7/00 ,  B01F 17/22 ,  C07C233/47 ,  C11D 1/10 ,  C11D 1/52
FI (7)：
A61K 7/075 ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 L ,  B01F 17/22 ,  C07C233/47 ,  C11D 1/10 ,  C11D 1/52
F-Term (62)：
4C083AC122 ,  4C083AC312 ,  4C083AC642 ,  4C083AC661 ,  4C083AC662 ,  4C083AC712 ,  4C083AD132 ,  4C083AD282 ,  4C083BB05 ,  4C083CC03 ,  4C083CC38 ,  4C083DD21 ,  4C083DD23 ,  4C083EE10 ,  4D077AB10 ,  4D077AB11 ,  4D077AC07 ,  4D077BA07 ,  4D077BA13 ,  4D077CA02 ,  4D077CA12 ,  4D077CA13 ,  4D077DC02X ,  4D077DC02Y ,  4D077DC04X ,  4D077DC04Y ,  4D077DC07Z ,  4D077DC15Z ,  4D077DC26X ,  4D077DC26Y ,  4D077DC26Z ,  4D077DC32X ,  4D077DC32Y ,  4D077DC43Z ,  4D077DC48X ,  4D077DC48Y ,  4D077DC50X ,  4D077DC50Y ,  4D077DC50Z ,  4D077DC54X ,  4D077DC54Y ,  4D077DC59X ,  4D077DC59Y ,  4D077DC67X ,  4D077DC67Y ,  4H003AB09 ,  4H003AB44 ,  4H003AB46 ,  4H003AC13 ,  4H003AD04 ,  4H003EB04 ,  4H003EB42 ,  4H003ED02 ,  4H003FA02 ,  4H003FA03 ,  4H006AA03 ,  4H006AB68 ,  4H006AB70 ,  4H006BN10 ,  4H006BS10 ,  4H006BT12 ,  4H006BV22
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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