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J-GLOBAL ID：200903072822718600

超高純度酸素製品を製造する原料空気低温蒸留法

Inventor： ラケシュ アグラウォル ,  ドナルド ウィンストン ウッドワード
Applicant, Patent owner： エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995111838
Publication number (International publication number)：1995305954
Application date： May. 10, 1995
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 原料空気を低温蒸留して超高純度の酸素製品を製造する方法を提供する。【構成】 主蒸留塔系(C1、C2)から、酸素を含有するが重質の汚染物が少ない(含まない)第一の流れ61を抜出し、続いて補助蒸留塔C3でストリッピングする。補助蒸留塔C3の塔底液の加熱/再沸をするため、酸素を含有するが軽質の汚染物が少ない(含まない)第二の気体流38も主蒸留塔から抜出し、そして次に補助蒸留塔C3の下部に供給する。補助蒸留塔C3の中間部分から、超高純度の酸素製品64を抜出す。

Claim (excerpt)：

下記の工程(a) 〜(g) を含む、主蒸留塔系と補助蒸留塔を使用し、原料空気を低温蒸留して超高純度の酸素製品を製造するための方法。(a) 高圧に圧縮し、低温(cryogenic temperatures)において凍結する不純物を取除き、且つその露点近くまで冷却した原料空気のうちの少なくとも一部分を主蒸留塔系へ供給する工程(b) 原料空気を精留して最終の気体窒素塔頂生成物と最終の液体酸素塔底液とにする工程(c) 当該主蒸留塔系の、抜出された流れが炭化水素、二酸化炭素、キセノン及びクリプトンを含むより重質の汚染物を本質的に含まない箇所から、第一の酸素含有流を抜出す工程(d) この第一の酸素含有流をストリッピングするため、第一の酸素含有流を補助蒸留塔の上部へ供給する工程(e) 当該主蒸留塔系の、抜出された流れが水素、ヘリウム、ネオン、窒素及びアルゴンを含むより軽質の汚染物を本質的に含まない気体流になる箇所から、第二の酸素含有流を抜出す工程(f) 補助蒸留塔の塔底液を加熱/再沸するため、この第二の酸素含有流を補助蒸留塔の下部へ供給する工程(g) 補助蒸留塔の中間の部分から超高純度酸素製品を抜出す工程

IPC (2)：

F25J 3/04 102 ,  F25J 3/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 超高純度窒素・酸素製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-093045   Applicant：テイサン株式会社
• 超高純度酸素採取方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-010905   Applicant：日本酸素株式会社