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J-GLOBAL ID:200903072835341700

磁気記録媒体およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山田 稔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992030720
Publication number (International publication number):1993234050
Application date: Feb. 18, 1992
Publication date: Sep. 10, 1993
Summary:
【要約】【目的】 コンピュータの外部記憶装置などに用いられる磁気記録媒体において、高い保磁力Hcを維持しながら保磁力角形比S* を向上し、高記録密度で、磁気特性の良い磁気記録媒体を実現する。【構成】 スパッタ法により、非磁性の基板上にCr下地層およびCo系磁性層を順次成膜し、製造される磁気記録媒体において、スパッタガスに酸素を0.3〜1.0モル%添加し、基板に負のバイアス電圧が印加して成膜を行うことにより、1400〜2500エルステッドの高い保磁力Hcを維持しながら、0.94〜1.0と保磁力角形比S* を向上することができる。
Claim (excerpt):
非磁性の基板上にCr下地層を介してCo系磁性層が積層された磁気記録媒体において、1400〜2500エルステッドの保磁力Hcと、0.94〜1.0の保磁力角形比S* とを有することを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (2):
G11B 5/64 ,  G11B 5/85

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