光学デバイスおよびその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：樺山亨 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993313233
Publication number (International publication number)：1995164549
Application date： Dec. 14, 1993
Publication date： Jun. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】曲率半径等に対する精度がよい光学デバイスを製造できる新規な光学デバイス製造方法を実現する。【構成】デバイス材料1の平坦な表面に所定の厚さに形成された熱可塑性材料層2を1以上のデバイスパターンに応じてレリーフ状にパターニングし、熱処理して、熱可塑性材料の表面形状を、デバイスパターンごとに凸曲面形状2Aとしたのち、熱可塑性材料とデバイス材料1とに対してECRエッチングを行って、熱可塑性材料における1以上の凸曲面形状2Aを、デバイス材料1に彫り写すことにより、デバイス材料1の表面に、所望の曲率の凸曲面1Aを1以上有する光学デバイスを製造する方法であって、熱可塑性材料表面の凸曲面形状2Aの曲率と、デバイス材料の表面に形成すべき凸曲面1Aの曲率との大小関係に応じて、ECRエッチングの選択比を調整・設定する。

Claim (excerpt)：

デバイス材料の平坦な表面に熱可塑性材料層を所定の厚さに形成し、この熱可塑性材料層を1以上のデバイスパターンに応じてレリーフ状にパターニングしたのち、パターニングされた熱可塑性材料層を熱処理し、熱可塑性材料の熱流動と表面張力により、熱可塑性材料の表面形状を、デバイスパターンごとに凸曲面形状としたのち、熱可塑性材料とデバイス材料とに対してECRエッチングを行って、上記熱可塑性材料における1以上の凸曲面形状を、デバイス材料に彫り写すことにより、デバイス材料の表面に、所望の曲率の凸曲面を1以上有する光学デバイスを製造する方法であって、熱可塑性材料表面の上記凸曲面形状の曲率と、デバイス材料の表面に形成すべき凸曲面の曲率との大小関係に応じて、ECRエッチングの選択比を調整・設定することを特徴とする光学デバイス製造方法。

IPC (5)：

B29D 11/00 , B29C 69/00 , G02B 3/00 , G02B 6/122 , B29L 11:00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-232902
電磁波励起プラズマエッチング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-014901 Applicant：日本電気株式会社
特開平1-219702

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