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J-GLOBAL ID：200903072863313135
基板の欠陥検査装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
木村 高久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992055543
Publication number (International publication number)：1993256791
Application date： Mar. 13, 1992
Publication date： Oct. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】基板表面の欠陥を正確に検査する。【構成】予め、基板表面1aの撮像画像の全画素をパターン2を示す画素と背景3を示す画素とに分離するための所定の明度が決定され、パターン2を示す画素の明度範囲も決定される。しかる後に、検査対象である基板表面1aが撮像され、この撮像画像の中から所定の明度以上の画素が除去される。そして除去された残りの画素の明度が上記決定された明度範囲外にあることを判断する。しかして、明度範囲外にあると判断された画素をパターン2の欠陥部分であると判定する。背景3の欠陥部分も同様にして判定される。
Claim (excerpt)：
所定形状のパターンが基板上に形成された基板表面を撮像することにより、前記基板表面のうち前記パターンを暗画像として、前記パターンを除いた背景を明画像として捕らえ、これら明暗画像に基づき前記パターンの欠陥を検査するようにした基板の欠陥検査装置において、予め、基板表面の撮像画像の全画素を前記パターンを示す画素と前記背景を示す画素とに分離する所定の明度を決定するとともに、前記パターンを示す画素の明度範囲を決定する基準設定手段と、検査対象である基板表面を撮像して得られた画像の中から前記所定の明度以上の明度の画素を除去し、該除去された残りの画素の明度が前記明度範囲外にあることを判断する判断手段とを具え、前記判断手段によって前記明度範囲外にあると判断された画素を前記パターンの欠陥部分であると判定するようにした基板の欠陥検査装置。
IPC (4)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G06F 15/62 405
, H05K 3/00
