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J-GLOBAL ID:200903072867136351

ドライエッチング装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 谷川 昌夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994129164
Publication number (International publication number):1995335627
Application date: Jun. 10, 1994
Publication date: Dec. 22, 1995
Summary:
【要約】【目的】エッチング用ガスをプラズマ化して発生するラジカルやイオンにより被処理物のエッチングを行うドライエッチング装置であって、被処理物表面にパーティクルが付着するのを抑制でき、それによりエッチングの歩留りを向上させることができるドライエッチング装置を提供する。【構成】真空容器1内の少なくとも被処理物Sに対向する面の少なくとも一部を覆う、ポリテトラフルオロエチレン、エチレン-テトラフルオロエチレン共重合体、テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体、エチレン-クロロトリフルオロエチレン共重合体及びポリクロロトリフルオロエチレンのうち1若しくは2以上を含むフッ素樹脂、又は、ポリイミド樹脂からなるシート41を備えたことを特徴とするドライエッチング装置。
Claim (excerpt):
真空容器内で、エッチング用ガスをプラズマ化して発生するラジカルやイオンにより被処理物のエッチングを行うドライエッチング装置であって、該真空容器内の少なくとも被処理物に対向する面の少なくとも一部を覆う、ポリテトラフルオロエチレン、エチレン-テトラフルオロエチレン共重合体、テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体、エチレン-クロロトリフルオロエチレン共重合体及びポリクロロトリフルオロエチレンのうち1若しくは2以上を含むフッ素樹脂、又は、ポリイミド樹脂からなるシートを備えたことを特徴とするドライエッチング装置。
IPC (2):
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00

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