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J-GLOBAL ID：200903072879167457

Cr(III)含有浴を用いた電解めっきによるRe-Cr合金皮膜の形成方法

Inventor： 成田 敏夫 ,  林 重成 ,  吉岡 隆幸 ,  八鍬 浩 ,  相馬 道明
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団 ,  株式会社荏原製作所 ,  札幌エレクトロプレイティング工業株式会社
Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003009058
Publication number (International publication number)：2003277972
Application date： Jan. 17, 2003
Publication date： Oct. 02, 2003
Summary：

【要約】【課題】 スパッタ法や物理蒸着法などでは解決できない複雑形状への施工を可能にすると共に、溶射法では解決できない薄膜施工、および、両者と比較して安価に、かつ簡便にタービンブレードなどの高温装置部材用の耐食合金皮膜などに用いられるRe-Cr合金皮膜を水溶液電解めっきで形成する方法を提供する。【構成】 過レニウム酸イオンを0.0001mol/L以上1.0mol/L未満、クロム(III)イオンを0.001より多く10.0mol/L以下含有し、かつ、めっき浴中の過レニウム酸イオンのクロム(III)イオンに対するモル比が0.001より多く0.1未満であり、めっき浴のpHが0〜8、液温が、10〜80°Cである水溶液からなるめっき浴を用いる。合金皮膜の組成は、原子組成で0% Claim (excerpt)：

過レニウム酸イオンを0.0001mol/L以上1.0mol/L未満、クロム(III)イオンを0.001より多く10.0mol/L以下含有し、かつ、めっき浴中の過レニウム酸イオンのクロム(III)イオンに対するモル比が0.001より多く0.1未満であり、めっき浴のpHが0〜8、液温が、10〜80°Cである水溶液からなるめっき浴を用いることを特徴とする電解めっきによるRe-Cr合金皮膜の形成方法。

IPC (3)：

C25D 3/56 ,  F01D 5/28 ,  F02C 7/00

FI (3)：

C25D 3/56 Z ,  F01D 5/28 ,  F02C 7/00 D

F-Term (10)：

3G002EA05 ,  3G002EA06 ,  4K023AB24 ,  4K023BA03 ,  4K023CA09 ,  4K023CB03 ,  4K023DA02 ,  4K023DA03 ,  4K023DA06 ,  4K023DA08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 鉄族元素合金皮膜のめっき方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-115072   Applicant：旭硝子株式会社
• クロム含有合金皮膜のめっき方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-115074   Applicant：旭硝子株式会社
• 特開昭54-93453号公報
  

Cited by examiner (4)

• 特公昭60-025917
  
• 特公昭60-025917
  
• 特開平2-174253
  
• 特公昭60-025917
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Binary Alloy Phase Diagrams, 2001, 第2版第4刷, 第1319頁,第1320頁