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J-GLOBAL ID:200903072896861286
斜め蒸着方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996304636
Publication number (International publication number):1998147858
Application date: Nov. 15, 1996
Publication date: Jun. 02, 1998
Summary:
【要約】【課題】斜め蒸着膜を形成できる新規な斜め蒸着方法を提供すること。【解決手段】粒子供給源16に対して基体14を高速で相対移動させて、基体14の基体面14aに沿って粒子の相対運動条件を作り出し、粒子を基体面14aに斜めに入射させ、斜めに堆積させる。
Claim (excerpt):
蒸着方法により基体の基体面に斜めに粒子を堆積させる方法であって、粒子供給源に対して前記基体を高速で相対移動させて、前記基体の基体面に沿った粒子の相対運動条件を作り出し、粒子を前記基体面に斜めに堆積させることを特徴とする斜め蒸着方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開昭61-200852
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特開昭59-056718
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特開平4-318164
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