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J-GLOBAL ID：200903072905948896

レーザ光学系とレーザ加工装置

Inventor： 佐々木 光夫
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 大胡 典夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001036885
Publication number (International publication number)：2002244078
Application date： Feb. 14, 2001
Publication date： Aug. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】 レーザ発振器から放射された高出力のレーザビームの光強度を均一化し、かつ、それを多分割化して同時多分岐化するレーザ光学系と、それを用いたレーザ加工装置を提供すること。【解決手段】 レーザ発振器1の光軸上の前方に、放射されたレーザビームLを伝搬してビーム形状を拡大するビームエキスパンダ2を設け、さらにその前方にレーザビームLを伝搬しその光強度を均一化するホモジナイザ3と、このホモジナイザ3で均一化されたレーザビームLを伝搬して所定数に分割するビーム分割手段5を設ける。

Claim (excerpt)：

レーザ発振器から放射されたレーザビームを伝搬してビーム形状を拡大するビームエキスパンダと、このビームエキスパンダにより拡大された前記レーザビームを伝搬しその光強度を均一化するホモジナイザと、このホモジナイザで均一化された前記レーザビームを伝搬して所定数に分割するビーム分割手段とを有することを特徴とするレーザ光学系。

IPC (4)：

G02B 27/09 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  H01S 3/00

FI (6)：

B23K 26/06 E ,  B23K 26/06 C ,  B23K 26/06 A ,  B23K 26/08 K ,  H01S 3/00 B ,  G02B 27/00 E

F-Term (11)：

4E068CA07 ,  4E068CD03 ,  4E068CD05 ,  4E068CD16 ,  4E068CE08 ,  5F072AB01 ,  5F072AK01 ,  5F072JJ02 ,  5F072MM08 ,  5F072MM09 ,  5F072YY06