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J-GLOBAL ID：200903072923785309

ジアリール化合物の製造方法

Inventor： 林 誠一
Applicant, Patent owner： 日本化薬株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999213378
Publication number (International publication number)：2001039898
Application date： Jul. 28, 1999
Publication date： Feb. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】安価で、毒性の少ない試薬を使ったジアリール化合物の製造法を提供すること。【解決手段】炭化水素系の芳香族性化合物と下記式(2)で示される超原子価ヨウ素化合物Φ I(OR1)(OSO2R2) (2)(式中、R1は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基を表し、R2はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基又はトリル基を表し、Φは置換基を有しててもよいフェニル基、トリル基、クメニル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基を示す。)を反応させることを特徴とするジアリール化合物の製造法。

Claim (excerpt)：

一般式(1)Ar-H (1)(式中、Arは置換基を有しててもよいフェニル基、ナフチル基、インデニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基又はフルオレニル基を示す。)で表されるアリール化合物に、一般式(2)で示される超原子価ヨウ素化合物Φ I(OR1)(OSO2R2) (2)(式中、R1は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基を表し、R2はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基又はトリル基を表し、Φは置換基を有しててもよいフェニル基、トリル基、クメニル基、キシリル基、メシチル基又はナフチル基を示す。)を反応させることを特徴とする、一般式(3)Ar-Ar (3)(式中、Arは式(1)におけるもと同じものを示す。)で表されるジアリール化合物の製造方法。

IPC (7)：

C07C 2/04 ,  B01J 31/02 103 ,  C07C 15/14 ,  C07C 15/24 ,  C07C 15/27 ,  C07C 15/38 ,  C07B 61/00 300

FI (7)：

C07C 2/04 ,  B01J 31/02 103 Z ,  C07C 15/14 ,  C07C 15/24 ,  C07C 15/27 ,  C07C 15/38 ,  C07B 61/00 300

F-Term (25)：

4G069AA08 ,  4G069BA21A ,  4G069BA21B ,  4G069BE36A ,  4G069BE37A ,  4G069DA08 ,  4G069FB77 ,  4H006AA02 ,  4H006AC23 ,  4H006BA37 ,  4H006BA44 ,  4H006BA45 ,  4H006BA52 ,  4H006BB12 ,  4H006BB15 ,  4H006BB17 ,  4H006BB21 ,  4H006BB25 ,  4H006BJ50 ,  4H006FC52 ,  4H006FC54 ,  4H006FC56 ,  4H039CA19 ,  4H039CG90 ,  4H039CL11