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J-GLOBAL ID：200903072939060029
投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991305808
Publication number (International publication number)：1993144698
Application date： Nov. 21, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：
【要約】【目的】 位相シフトレチクル使用時に投影光学系により発生する投影誤差を高精度に補正する。【構成】 レチクルを装着する前後で、投影光学系へ入射する照明光量と投影光学系を通過する透過光量とをそれぞれ測定し、各測定値に基づいて投影光学系内の光学素子での吸収エネルギー分と、それ以外の部分での吸収エネルギー分とを分離して求める。
Claim (excerpt)：
光学的位相部材が投影すべきパターン形状に応じて透明基板上に形成されたマスクを、光源からの照明光で照射するための照明系と、前記パターンの像を所定の結像面に投影する投影光学系と、感光基板を前記結像面にほぼ一致させて保持するステージと、前記照明光の一部吸収による前記投影光学系の光学特性の変動に起因して生ずる投影誤差を補正する補正手段とを備えた投影露光装置において、前記マスクを通過する前の照明光を受光する第1光電検出器と;前記投影光学系を通ってきた照明光を受光する第2光電検出器と;前記第1光電検出器の出力に基づいて前記マスクに達する照明光の総エネルギーに対応した第1の値を測定するとともに、前記第2光電検出器の出力に基づいて、前記マスクの装着前の状態で前記投影光学系を透過する照明光の総エネルギーに対応した第2の値と、前記マスクの装着後に前記マスクと投影光学系との両者を透過する照明光の総エネルギーに対応した第3の値とを測定する測定手段と;前記第1、第2、第3の値に基づいて、前記投影光学系の内部で吸収されるエネルギーに対応した値を、光学素子での吸収分とその他の部分での吸収分とに分けて算出する演算手段とを備え、該算出された各値に基づいて前記補正手段を制御することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 301 H
, H01L 21/30 311 W
Cited by applicant (11)
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