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J-GLOBAL ID：200903072939883351

電子透かし埋込み装置及び電子透かし検出装置

Inventor：
村谷 博文

About 村谷 博文

, 
加藤 拓

About 加藤 拓

, 
遠藤 直樹

About 遠藤 直樹


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998340019
Publication number (International publication number)：2000165654
Application date： Nov. 30, 1998
Publication date： Jun. 16, 2000
Summary：
【要約】【課題】大きなブロックサイズを選択したとしても、透かし情報の埋込みが効率よく行えるようにする。【解決手段】埋込み位置選択部11は、周波数成分値には依存せずに透かし情報を埋め込むべき周波数空間中の位置(u,v)を決定する。周波数成分値変分決定部12は、この埋込み位置(u,v)の周波数成分値をどのような値に変更するかの変分ΔF(u,v)を決定する。画素値変分計算部13は、透かし情報の埋込みの対象となる画像の画素値空間中の各点(x,y)における画素値の変分Δf(x,y)を、上記周波数空間中の埋込み位置と、周波数成分値変分決定部12によって決定された周波数成分値の変分を入力として計算する。画素値変換部14は、画素値変分計算部13で計算された画素値空間中の各点(x,y)の画素値の変分Δf(x,y)に従い、画像データの変換を行う。
Claim (excerpt)：
透かし情報の埋込み対象となる画像の画素値データを入力し、透かし情報を埋込んだ後に、透かし情報埋込み済みの画像の画素値データを出力する電子透かし埋込み装置において、前記透かし情報を埋め込むべき周波数空間中の位置を周波数成分値に無関係に決定する埋込み位置選択手段と、前記埋込み位置選択手段によって決定された各埋込み位置の周波数成分値の変分を決定する周波数成分値変分決定手段と、前記画像の画素値空間中の各点における画素値の変分を、前記埋込み位置選択手段によって決定された周波数空間中の埋込み位置、及び前記周波数成分値変分決定手段によって決定された周波数成分値の変分をもとに計算する画素値変分計算手段と、前記画素値変分計算手段によって計算された画素値空間中の各点の画素値の変分に従い、前記画像の対応する画素値データを変更することで透かし情報の埋込みを行う画素値変換手段とを具備することを特徴とする電子透かし埋込み装置。
IPC (4)：
H04N 1/387 ,  G09C 5/00 ,  G11B 20/10 ,  H04L 9/36
FI (4)：
H04N 1/387 ,  G09C 5/00 ,  G11B 20/10 H ,  H04L 9/00 685
F-Term (23)：
5C076AA14 ,  5C076AA40 ,  5C076BA06 ,  5C076CA10 ,  5D044AB05 ,  5D044AB07 ,  5D044DE37 ,  5D044GK07 ,  5D044GK17 ,  5D044HL01 ,  5J104AA14 ,  5J104JA03 ,  5J104PA14 ,  9A001EE02 ,  9A001EE03 ,  9A001EE05 ,  9A001GG05 ,  9A001GG22 ,  9A001HH26 ,  9A001HH27 ,  9A001HH29 ,  9A001HH30 ,  9A001LL03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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