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J-GLOBAL ID：200903072962785979

組織の修復あるいは再生に用いる組織工学装置

Inventor： セイダ・アグニースツカ ,  コルター・デイビッド・シー ,  ブエンスセソ・チャリト・エス ,  ダーナラジ・スリデビ ,  ゴシーウスカ・アンナ ,  ジーシン・ジェフリー・シー ,  スコペリアノス・アンジェロ・シー
Applicant, Patent owner： エシコン・インコーポレイテッド
Agent (3)： 加藤 公延 ,  田澤 英昭 ,  濱田 初音
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2007548345
Publication number (International publication number)：2008523957
Application date： Dec. 15, 2005
Publication date： Jul. 10, 2008
Summary：

【課題】足場の表面上の細胞の分配がコントロール可能な装置を提供する。【解決手段】組織の修復もしくは再生に用いる、支持足場層と細胞シート層で作られた組織工学装置。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

組織の修復もしくは再生に用いられる組織工学装置において、 支持足場層と細胞シート層とを備える、組織工学装置。

IPC (1)：

A61L 27/00

FI (1)：

A61L27/00 V

F-Term (30)：

4C081AB01 ,  4C081AB11 ,  4C081CA161 ,  4C081CA231 ,  4C081CD021 ,  4C081CD081 ,  4C081CD111 ,  4C081CD121 ,  4C081CD29 ,  4C081CD33 ,  4C081CD34 ,  4C081DC03 ,  4C097AA01 ,  4C097AA14 ,  4C097AA20 ,  4C097AA23 ,  4C097BB01 ,  4C097CC01 ,  4C097CC02 ,  4C097CC11 ,  4C097DD02 ,  4C097DD05 ,  4C097DD13 ,  4C097DD15 ,  4C097EE08 ,  4C097EE17 ,  4C097EE18 ,  4C097EE19 ,  4C097FF01 ,  4C097MM04